超精細拋光工藝到達外表粗糙度優(yōu)于0.2納米（世界干流水平0.3納米）；磁控濺射鍍膜設備完結(jié)膜層均勻性±2%（世界標準±5%）；缺點檢測體系可辨認0.3微米級瑕疵并相關(guān)出產(chǎn)數(shù)據(jù)。咱們將經(jīng)過‘投行+商行’一體化服務
，并指出“現(xiàn)有光刻技能路線下，“依靠進口設備的產(chǎn)線存在停擺危險”，現(xiàn)在國產(chǎn)空白掩模版在130-500nm制程已完結(jié)技能對標，

出資方觀念 ：

中銀世界出資項目擔任人表明：“中科卓爾在半導體資料范疇具有技能稀缺性與工業(yè)鏈卡位優(yōu)勢 ，現(xiàn)在「中科卓爾」成都中試線已完結(jié)工藝與產(chǎn)品驗證，曾參加國家02專項研發(fā)