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這不是單一企業(yè)的短板 ,
  • 其他工藝環(huán)節(jié) :如刻蝕、光刻工藝一般選用光刻機(jī)內(nèi)置的對(duì)準(zhǔn)體系、Matching目標(biāo)是指同一臺(tái)設(shè)備在同一時(shí)刻丈量不同的wafer,歷經(jīng) 400-500 道工序