國產化率估計缺乏1%，楊偉表明，我國需求折算約為100億元人民幣 。

空白掩模版作為光刻工藝中的圖形搬運載體，超精細拋光工藝到達外表粗糙度優于0.2納米（世界干流水平0.3納米）；磁控濺射鍍膜設備完結膜層均勻性±2%（世界標準±5%）；缺點檢測體系可辨認0.3微米級瑕疵并相關出產數據 。歸納多家研究報告數據 ，但在100nm以內更先進節點仍需進一步打破 
。國內擴產受限。”

四川鼎祥項目擔任人表明：“咱們從天使輪出資中科卓爾以來，且要害制程設備仍依靠進口