公司打破了半導(dǎo)體掩模版基板精細(xì)拋光與鍍膜要害技能，且國(guó)產(chǎn)化率較高的國(guó)內(nèi)空白掩模版范疇的搶先企業(yè) 。

空白掩模版作為光刻工藝中的圖形搬運(yùn)載體，多家跟投組織亦在快速推動(dòng)中